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产品简介
货号 | CAS号 | 编号 | 包装 | 参数 |
101034 | 1317-33-5 | XFG16 | 1 盒 | 基底尺寸: 10 mmx10 mm |
产品名称中文名称: 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼英文名称:Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3 性质
形态:薄膜
参数
基底:氧化铝基底尺寸:10 mmx10 mm
MOS2面积: >10 µm2
应用
先丰纳米**推出机械剥离制备的二硫化钼,相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料
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